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UV照射装置

RAD-2010F/12(300mmフルオートUV照射装置)

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  • RAD-2010F/12 (PDF:183KB)
1.コンパクトで高スループット
ローダ&アンローダを一体型した300mm、200mmウェハ対応マシン。一体型によるマシンサイズのコンパクト化と、2系統のワークパスラインによる高スループット化を実現しました。
2.ハイクオリティー&ハイパフォーマンス
UV硬化型ダイシングテープのリーディングカンパニーが開発した高性能マシンです。高出力UVランプによる照度と光量の最適化、ウェハ処理ごとの光量チェック、酸素阻害を防ぐ環境でのUV照射などの機能により、テープの機能をフルに発揮します。
  • UV硬化を阻害する酸素を排除するため、ウェハチャンバーに窒素を充填し、UV照射します。
3.快適オペレーション&セーフティー
使いやすさを高める大型タッチパネルを採用。マシンの操作と整備の安全性は、SEMI安全性ガイドラインに基づき、設計と組立段階から充実を図りました。
  • CEマーキング対応
4.アセンブリー工程のFA化
ホストコミュニケーション機能、さらにインラインシステムを組み込むことにより、トータル的なプロセスのFA(Factory Automation)化を実現します。
オプション
  • ホストコミュニケーション機能(通信方式:SECS-I, HSMS準拠、ソフト:GEM準拠)
  • レシピ選択用バーコードリーダー
  • リングフレームID読み取り用バーコードリーダー
  • ダブルローダ&アンローダ

RAD-2010F/12 動作プロセス

A.ワーク供給、検索、取り出し
カセット内のワークは、収納状態の自動検索後、アライメント部に搬送されます。
B.照射準備
アライメントされたワークは、搬送アームの下部パスラインを移動してチャンバー内に収納され、照射開始位置へ移動します。このときにチャンバー内に窒素が充填されます。
C.UV照射
チャンバー内のワークは、UVランプの上を移動し均一に照射されます。
D.収納待機
照射を完了したワークは、チャンバーおよび搬送アームの上部パスラインを移動し、アライメント上部で待機します。
E.ワーク収納
次ワークをチャンバーへ供給後、待機していたワークはカセットへ収納されます。

RAD-2000F/8(200mmフルオートUV照射装置)

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  • RAD-2000F/8 (PDF:190KB)
1.工程を迅速化するフルオート
ローダ&アンローダを一体化したフルオートシステムが、作業効率をアップしました。
2.照度・光量のコントロール自在
高出力UVランプを使用。照度・光量の調節も自在なので効率的に照射できます。
3.全面をムラなく、均一に照射
移動しながら照射する方式を採用。全面均一照射を実現しました。
4.品質を守る自己チェック機能
自己チェック機能を内蔵しているため、より確実な照射が可能です。
オプション
  • ホストコミュニケーション機能
    (通信方式:SECS-I、HSMS準拠、ソフト:GEM準拠)

RAD-2100m/12(300mmセミオートLED UV照射装置)

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  • RAD-2100m/12 (PDF:210KB)
1.装置消費電力の大幅カットを実現
LED光源を使用することで照射時の消費電力削減、さらにランプの即時点灯による待機電力の削減を実現しました。
2.300mmセミオートUV照射装置の当社従来機との比較
  • フットプリントを約30%縮小
  • 装置の消費電力を約70%カット
  • ランプの交換頻度を低減し、期待寿命7年以上を実現
  • 数値については実測値であり、保証値ではありません。
3.LEDの劣化による照度低下を監視(LED監視機能)
ワーク照射完了ごとに、LED UV 照度センサーが照度および光量をチェックします。
4.ボタンひとつで簡単操作
フレームサイズに合わせたガイドの上にワークをセットしスタートボタンを押すと、UV照射を開始します。
5.ユーザーフレンドリーな機能
チャンバーの移動ではなく光源が移動することで、コンパクトな装置設計を実現しました。また光量を設定・調節することで、より均一な全面照射を確実に行います。

RAD-2010m/12(300mmセミオートUV照射装置)

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  • RAD-2010m/12 (PDF:197KB)
1.300mmセミオートUV照射装置の当社従来機との比較
  • フットプリントを約16.5%縮小
  • 操作パネルを左側へ集約し、オペレーションの操作性を向上
  • タッチパネル設置角度(45°)における視認性を向上(SEMI規格準拠)
  • 150mmウェハ用リングフレーム2枚同時照射可能(オプション)
2.高精度な定照度点灯を実現
高周波インバーターを使用した矩形波点灯なので、高精度かつ安定したUV照射を実現し、照度と光量を最適化します。
3.フィードバック制御による照度の自動コントロール
内蔵センサーにより、UV光出力を一定に保つようフィードバック制御を行います。これによりランプ寿命まで照度を一定に保つことができ、半導体生産の定量化に貢献します。
4.ボタンひとつで簡単操作
センターローディング方式を採用することにより、操作性と安定性がさらにアップ。作業効率も一層高まります。
5.スピーディーな全面均一照射
窒素が充填されたチャンバーの移動により、全面均一照射を確実に行います。また、ウェハの大きさや種類などの諸条件に応じて、照射スピードを自由に調節することができます。

RAD-2000m/12(300mmセミオートUV照射装置)RAD-2000m/8(200mmセミオートUV照射装置)

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  • RAD-2000m/8 (PDF:192KB)
1.高精度な定照度点灯を実現
高周波インバーターを使用した矩形波点灯なので、高精度かつ安定したUV照射を実現し、照度と光量を最適化します。
2.フィードバック制御による照度の自動コントロール
内蔵センサーにより、UV光出力を一定に保つようフィードバック制御を行います。これによりランプ寿命まで照度を一定に保つことができ、半導体生産の定量化に貢献します。
3.ボタンひとつで簡単操作
センターローディング方式を採用することにより、操作性と安定性がさらにアップ。作業効率も一層高まります。
4.スピーディーな全面均一照射
窒素が充填されたチャンバーの移動により、全面均一照射を確実に行います。また、ウェハの大きさや種類などの諸条件に応じて、照射スピードを自由に調節することができます。
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